真空產(chǎn)品生產(chǎn)廠家、真空行業(yè)的科技工作者每時(shí)每刻都應(yīng)該掌握自己工作領(lǐng)域內(nèi)最近、最新的學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)，研究自己工作范圍內(nèi)的前沿課題，以便給自己定位，確定自己的對(duì)策，找出自己前進(jìn)的方向，積極參加市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，不斷改革創(chuàng)新，才能立于不敗之地。尤其是我國(guó)加入WTO之后，真空科技工作者的目光應(yīng)該更遠(yuǎn)大，獲取科技信息就顯得更為重要，它是企業(yè)存在的保障，是科技工作者的生命線。

1、真空泵

真空泵的種類(lèi)很多，可按下表進(jìn)行分類(lèi)。

真空泵的前沿課題主要有：①號(hào)稱(chēng)21世紀(jì)綠色真空泵的各種無(wú)油泵（干泵）的研制；②噴射泵、擴(kuò)散泵的理論研究與設(shè)計(jì)計(jì)算；③探索創(chuàng)新泵的工作原理，研制新型泵。

2、真空計(jì)量

　　真空計(jì)量目前研究的主要內(nèi)容有：

　　①真空度(全壓力)測(cè)量與校準(zhǔn)；

　?、谡婵召|(zhì)譜分析，分壓力的測(cè)量與校準(zhǔn)；

　?、蹥怏w微流量(漏率)的測(cè)量與校準(zhǔn)；

　?、懿牧戏艢饴实臏y(cè)量；

　?、菡婵毡贸樗贉y(cè)量。

真空計(jì)量研究的前沿課題可歸納為：

　?、傺芯糠瞧胶鈶B(tài)分子流理論，非平衡態(tài)分子流校準(zhǔn)系統(tǒng)，超音速分子流校準(zhǔn)系統(tǒng)，為空間真空測(cè)量和校準(zhǔn)解決難題；

　?、谘芯课⑿÷饴蕼y(cè)量、校準(zhǔn)技術(shù)；

　?、垩芯拷鉀Q極高真空的測(cè)量、校準(zhǔn)問(wèn)題，尋找新的測(cè)量理論；

　?、苎芯坎牧衔⒘糠艢饴蕼y(cè)量與放氣成分分析技術(shù)

　　⑤研究解決擴(kuò)散泵返油率的測(cè)量問(wèn)題，尋找新的測(cè)量方法。

3、真空鍍膜

　　真空鍍膜是真空科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中最活躍的一門(mén)應(yīng)用技術(shù)，它涉及到鍍膜設(shè)備、工藝、膜材、靶材等諸多方面，薄膜的種類(lèi)很多，這里只能簡(jiǎn)單論述其中的一部分。

3.1、硬質(zhì)薄膜

　　自然界中金剛石最硬，立方氮化硼第二，碳化硼第三。

　?、俳饎偸?CVD法生產(chǎn)): 熱絲CVD法金剛石膜沉積速率可達(dá) 2.5μm/h，HV40~50GPa；

　　②B4C 碳化硼：用磁控濺射法生產(chǎn)，高溫?zé)岱€(wěn)定性好，1100℃以上，它是最硬材料，HV50.4gPa；

　?、蹚?fù)合膜：TiN-第1代；TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多組元復(fù)合膜和多層膜體系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化鉭/氮化鈮)，HV55.6GPa，發(fā)展成多層納米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化鋯)。發(fā)展方向：提高膜的韌性、耐磨性、耐熱性、耐蝕性。

3.2、金剛石涂層刀具

研究方向：①提高金剛石涂層與基體之間附著力，設(shè)計(jì)中間過(guò)渡層，開(kāi)發(fā)多涂層刀具; ②增大沉積面積，提高生長(zhǎng)速率; ③研究PVD法金剛石涂層理論和工藝。

3.3、光、電、 磁各種功能膜

　　這些功能膜種類(lèi)繁多，性能各異，這里僅舉部分例證。

　　①發(fā)光薄膜：Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射頻濺射法);

　?、诶涔饽? 可見(jiàn)光區(qū)高反射，紅外光區(qū)高透射，實(shí)現(xiàn)冷光照射，達(dá)到保護(hù)被照物目的;

　?、塾袡C(jī)光電薄膜：金屬酞菁膜：CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧鈦具有極高光敏系數(shù);

　?、芄怆姽δ軓?fù)合膜- Ag-Au-SiO2，Ag-BaO，Ag-SiO2,Ag-MgF2，其中Ag-MgF2納米金屬陶瓷薄膜具有光吸收特性，Ag-BaO具有光電發(fā)射特性；

　?、萃该鲗?dǎo)電膜：ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al)，IMO(In2O3:Mo);

　?、薰庵伦兩∧ぃ?8烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下變色，在可見(jiàn)光照下恢復(fù)無(wú)色，可用于光信息存儲(chǔ)、光控開(kāi)關(guān)等；

　?、叽殴庥涗洷∧ぃ篜bFeCo(鉛鐵鈷);

　　⑧超大規(guī)模集成電路(VLSI)： 在Si基片上濺射Cu或Al，實(shí)現(xiàn)多層布線;

　　⑨半導(dǎo)體膜：SiC、ZnO；

　?、馄渌怆姶诺忍匦怨δ苣ぃ?/span>

　　LiF、CaF2用于平面型場(chǎng)發(fā)射顯示器;

　　Fe/Cr多層膜有巨磁電阻(GMR) ;

　　Fe=SiO2膜具有隧道磁電阻效應(yīng)(TMR);

　　TiO2膜具有優(yōu)良的介電、壓電、氣敏和光催化功能;

　　Cu-SCN-Al(有機(jī)絡(luò)和物)有極性記憶效應(yīng);

　　三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)單晶是一種可以用來(lái)進(jìn)行高密度信息存儲(chǔ)的有機(jī)復(fù)合材料;

　　YBCO屬高溫超導(dǎo)(HTS)膜。

3.4、裝飾膜

　　研究方向：①對(duì)薄膜材料的研究正向復(fù)合化、 多種類(lèi)、高性能、新工藝方向發(fā)展②研究復(fù)合膜的設(shè)計(jì)、性能檢測(cè)、制備方法; ③研究薄膜應(yīng)力( 牢固度) ;④研究大面積靶材制作技術(shù)，提高靶材利用率。

3.5、前沿課題

　　①發(fā)現(xiàn)具有新特性的新的膜層材料;

　?、谠O(shè)計(jì)具有特殊功能的新的膜系(復(fù)合膜);

　　③發(fā)展高科技產(chǎn)業(yè)，例如集成電路產(chǎn)業(yè)，信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，包括液晶顯示器(LCD)，等離子體顯示器(PDP)， 場(chǎng)致發(fā)射顯示器(EL)；

　?、苌钊肽咏Y(jié)構(gòu)與特性關(guān)系等理論研究。