無(wú)油式真空泵的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及安裝維護(hù)注意點(diǎn)      清潔的真空環(huán)境一直是科學(xué)家和企業(yè)界追求的理想真空環(huán)境.自能夠創(chuàng)造真空環(huán)境開始,人們就試圖采用不同手段達(dá)到清潔真空的效果.時(shí)至今日,清潔真空獲得設(shè)備已經(jīng)發(fā)展到冷凝泵、住賽泵、爪式泵、渦旋泵以及隔膜泵等多種產(chǎn)品。在現(xiàn)有的無(wú)油真空泵當(dāng)中,無(wú)油渦旋真空泵與其他種類的無(wú)油真空泵相比具有下述特點(diǎn):     ①.無(wú)油，無(wú)摩擦——真空腔內(nèi)無(wú)油，非接觸，無(wú)磨損，不產(chǎn)生微粒塵埃污染，可獲得清潔真空；    ②.抽氣量大——雙渦旋盤，結(jié)構(gòu)與單級(jí)相比相同直徑泵抽氣容積為2倍，節(jié)省能源；    ③.抽氣效率高——帶有3-4個(gè)抽氣單元，壓差??；大氣與真空之間由O型圈密封，泄漏低；    ④.非接觸,良好平衡,力矩影響小，噪音低，振動(dòng)小；    ⑤.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊，相同尺寸下，運(yùn)動(dòng)半徑小，運(yùn)行平穩(wěn)；   ⑥.體積小，維修方便，維護(hù)費(fèi)用低；   ⑦.采用空氣冷卻，無(wú)需水冷。   無(wú)油渦旋真空泵應(yīng)用在    ①.半導(dǎo)體行業(yè)——薄膜制備設(shè)備、半導(dǎo)體器件封裝設(shè)備；    ②.科學(xué)儀器行業(yè)——同步輻射光束線、電子顯微鏡、分析測(cè)試儀器；   ③.機(jī)械設(shè)備行業(yè)——材料制備設(shè)備、真空檢測(cè)、材料提純?cè)O(shè)備；   ④.化學(xué)工業(yè)；    ⑤．醫(yī)療設(shè)備——牙科儀器、透析機(jī)、生物制品與藥品制備；   ⑥．包裝行業(yè)——食品、藥品、生物制品等包裝設(shè)備。   無(wú)油渦旋真空泵主要由5個(gè)部件組成：   ①．動(dòng)靜渦旋盤付與基座；   ②．曲軸；   ③．密封墊；   ④．防自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；   ⑤．電機(jī)。    無(wú)油渦旋真空泵的渦旋盤就是一個(gè)一端與一個(gè)平面相接的一個(gè)或幾個(gè)漸開線螺旋形成的一個(gè)渦旋型盤狀結(jié)構(gòu)體。一個(gè)靜渦旋盤與一個(gè)動(dòng)渦旋盤相互交*組裝在一 起，兩者之間由防自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)保證180。相位差，這樣結(jié)合組成的一對(duì)渦旋盤付構(gòu)成了無(wú)油渦旋真空泵的基本抽氣機(jī)構(gòu)。靜渦旋盤與動(dòng)渦旋盤彼此之間在幾條直線上接觸形成對(duì)稱的幾對(duì)月牙腔，動(dòng)渦旋盤在曲軸的驅(qū)動(dòng)下繞靜渦旋盤的渦旋體中心運(yùn)動(dòng)，使靜渦旋盤與動(dòng)渦旋盤的接觸點(diǎn)沿渦旋曲面 移動(dòng)實(shí)現(xiàn)吸氣、壓縮與排氣。例如在雙級(jí)無(wú)油渦旋真空泵中，有兩個(gè)方向?qū)?yīng)的靜渦旋盤，一個(gè)位于兩個(gè)渦旋盤之間的動(dòng)渦旋盤。

下面以普通旋片真空泵為例，說(shuō)明其差別：     無(wú)油渦旋真空泵的主要優(yōu)點(diǎn)主要包括：    ①.密封性良好,沒(méi)有向機(jī)械泵那樣直接連接吸、排氣腔的泄漏通道,容易密封,容易達(dá)到較高的真空度；    ②.回轉(zhuǎn)半徑小，動(dòng)靜渦旋盤相對(duì)滑動(dòng)速度僅為旋片真空泵的1/7左右，動(dòng)靜渦旋盤之間的動(dòng)密封相對(duì)容易，有利于延長(zhǎng)泵的使用壽命；    ③壓縮進(jìn)程必較緩慢，有2個(gè)或者3個(gè)壓縮過(guò)程同時(shí)進(jìn)行，壓縮腔相對(duì)曲軸對(duì)稱，這樣泵的運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程平穩(wěn)、驅(qū)動(dòng)力矩和氣體沖擊波動(dòng)小，使泵的噪音和振動(dòng)降低。   總而言之，無(wú)油渦旋真空泵結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、具有較高的壓縮比，在較寬的壓力范圍內(nèi)有穩(wěn)定的抽速，工作壓力范圍寬；動(dòng)靜渦旋盤之間間隙小、泄漏少，由于壓縮腔容積的變化是連續(xù)的，因而驅(qū)動(dòng)扭矩變化小，功率變化小,振動(dòng)噪聲低，可*性高。這是其它類型的干式真空泵所不具備的。    由于普通旋片油泵的漏油、噪聲、返油污染、高能耗以及振動(dòng)等問(wèn)題給用戶造成不良影響，如生物制品行業(yè)與半導(dǎo)體行業(yè)的油蒸汽污染與工藝系統(tǒng)返油問(wèn)題。真 空鍍膜設(shè)備的鍍膜工藝中，在20～40Pa真空條件下鍍膜時(shí)，如果應(yīng)用普通旋片機(jī)械真空泵作為前級(jí)真空泵將對(duì)鍍膜工藝設(shè)備造成污染，影響成膜質(zhì)量。半導(dǎo)體 晶片制造工藝當(dāng)中使用油泵與使用于泵相比，成品率存在明顯的差距，并且排出的油霧蒸汽對(duì)環(huán)境也有污染.科學(xué)儀器行業(yè)尤其是在分析測(cè)試儀器行業(yè)，采用油泵對(duì) 測(cè)試結(jié)果將造成不良影響。大型同步輻射光束線上采用無(wú)油渦旋真空泵作為前級(jí)真空泵的作用也相當(dāng)明顯。另外無(wú)油渦旋真空泵消除了普通油泵的漏油給用戶帶來(lái)的 環(huán)境污染與煩惱?，F(xiàn)有無(wú)油渦旋真空泵用戶的使用情況也證明了這種泵的優(yōu)越性。